氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
氧化鈮平面靶采用冷壓燒結(jié)工藝制得，一般綁定在銅背板上使用，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。


純度：99.99%；電阻率（20°C）：≤ 0.1Ω.cm。
應(yīng)用領(lǐng)域：LOW-E鍍膜玻璃，薄膜太陽(yáng)能電池，TFT-LCD，半導(dǎo)體電子，光學(xué)鍍膜，裝飾鍍膜。


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